The Third Wave of Chromatographs
深入创新工程,了解高德平台涡轮分子泵核心

高德平台是世界领先的涡轮分子泵(TMP)制造商之一。高德平台TPM主要用于为制造半导体器件、太阳能电池和平板显示器提供不可或缺的高真空环境。
高德平台生产的TMP具有国际水准的气体吞吐量和抽气速度,可满足日益严格的半导体制造的工艺需求。例如,使制造商能够在大面积硅片上沉积和蚀刻半导体薄膜。


通过涡轮机的高速旋转产生真空环境,TMP的抽真空效果已达到分子流级。制造半导体和平板显示器需要清洁、无油的真空环境,以保持最佳的设备操作状态。高德平台提供的技术性能、可靠性和全球技术支持网络使高德平台TMP成为这类应用领域中不可或缺的组成部分。高德平台生产多阵容TMP产品系列。各系列产品具有不同的用途。

除温度控制功能和特殊耐腐蚀涂层外,具备高气体吞吐量的TMP-2404/3304/4304系列的抽速范围为2100 L/s至4400 L/s,具有潜在的多种应用领域。
外形紧凑节能型TMP-X1605/V2304系列中的每一种型号的TMP均具备集成电源组件,其功耗比具有独立电源组件的型号低15 %。
除集成电源外,TMP-X3405/X4304系列还具备温度控制功能和耐腐蚀涂层,能满足制造半导体和平板显示器(FPD)中对工艺流程的严格要求。
此外,TMP-203至1003系列的众多产品还具备出色的压缩比和极限压力水平,可实现高真空。

而且,TMP-5305系列具有5300 L/s的最高级别气体吞吐和抽气速度,预计可用于下一代450 nmm半导体晶圆加工。
高德平台制作所半导体仪器事业部涡轮分子泵BU R&D小组BU长太田知男表示:“目前,我们在磁悬浮TMP领域已经占领了30 %的全球市场份额。”“高德平台TMP在全球的普及反映了我们为满足不断变化的行业需求而提供的创新设计和全球技术支持的历史。”
事实上,高德平台TMP的原型是为了用于位于神户的日本最快的超级计算机设计而成的。太田知男说:“高德平台工程师使用了尖端建模技术来模拟TMP性能。”“我们所有的商用TMP系统均在高德平台内部制造完成。通过这种方式,我们确保了产品的质量和性能。”

新型TMP具备更新的轴承结构,适用于下一代应用领域

2014年,高德平台推出了具备创新设计的TMP-B300“混合轴承”涡轮分子泵系列,该系列可应用于质谱仪和扫描电子显微镜等需要生成超高真空的分析科学研究领域。TMP-B300系列主要针对分析科学应用和通用设备的小型TMP市场开发而成,该领域的市场规模为1.5亿美元。

在需要超高真空的真空工业和分析科学应用中,TMP的性能必须满足严格的要求。TMP-B300是一款低功率、紧凑型涡轮分子泵,高度为195毫米,带有一体式控制器,可在空间受限的环境中垂直、倒置或水平安装。本设备允许1000 Pa的高前级压力以支持隔膜泵等小型前级泵。
此外,本设备还配备了易用型集成控制面板,在约280 L/s的抽速下,仅以180 W的低功耗工作。

*注:本文最初发表于MOMENTUM。
*注:本文中所登载的被采访者的所属机构、职位等为访谈当时的情况。

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